台积电6纳米制程技术明年第一季度进入试产 年底前量产

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2019

10月8日消息,台湾半导体制造商台积电(TSMC)最近透露,该公司的6纳米制程技术将在明年第一季度进入试生产,在明年年底之前实现量产。

TSMC表示,其用于极紫外(EUV)光刻的7纳米有效版本(N7 +)工艺已帮助客户大量进入市场。引入EUV光刻的N7 +是基于该公司成功的7nm工艺,为6nm及更高级工艺奠定了基础。

N7 +的生产率是历史上最快的生产工艺之一。它于2019年第二季度开始批量生产。就7纳米制程技术(N7)的批量生产超过一年的情况而言,N7 +的产量非常接近N7。

N7 +还可以提高整体性能。 N7 +的逻辑密度比N7高15%至20%,同时降低了功耗。台积电迅速建立了能力,以满足多个客户对N7 +的需求。

TSMC表示,EUV光刻技术使该公司能够继续推动晶片小型化,因为EUV的较短波长可以更好地解释先进的工艺设计。台积电的EUV设备已达到成熟生产水平,EUV设备机器也达到了量产目标。日常运行中的输出功率超过250瓦。

TSMC表示,N7 +的成功经验是未来先进工艺技术的基石。台积电的6nm制程技术(N6)将于2020年第一季度进入试生产阶段,并于年底之前进入批量生产阶段。随着EUV光刻技术的进一步应用,N6的逻辑密度将比N7高18%,并且与N7完全兼容的N6设计规则可以大大缩短客户的产品上市时间。

台积电成立于1987年,是包括苹果和高通在内的全球最大的晶圆代工厂。其总部位于台湾新竹市新竹科学园区。台积电股票在台湾证券交易所上市,股票代码为2330,美国存托凭证在纽约证券交易所上市,股票代码为TSM。

10月8日消息,台湾半导体制造商台积电(TSMC)最近透露,该公司的6纳米制程技术将在明年第一季度进入试生产,在明年年底之前实现量产。

TSMC表示,其用于极紫外(EUV)光刻的7纳米有效版本(N7 +)工艺已帮助客户大量进入市场。引入EUV光刻的N7 +是基于该公司成功的7nm工艺,为6nm及更高级工艺奠定了基础。

N7 +的生产率是历史上最快的生产工艺之一。它于2019年第二季度开始批量生产。就7纳米制程技术(N7)的批量生产超过一年的情况而言,N7 +的产量非常接近N7。

N7 +还可以提高整体性能。 N7 +的逻辑密度比N7高15%至20%,同时降低了功耗。台积电迅速建立了能力,以满足多个客户对N7 +的需求。

TSMC表示,EUV光刻技术使该公司能够继续推动晶片小型化,因为EUV的较短波长可以更好地解释先进的工艺设计。台积电的EUV设备已达到成熟生产水平,EUV设备机器也达到了量产目标。日常运行中的输出功率超过250瓦。

TSMC表示,N7 +的成功经验是未来先进工艺技术的基石。台积电的6nm制程技术(N6)将于2020年第一季度进入试生产阶段,并于年底之前进入批量生产阶段。随着EUV光刻技术的进一步应用,N6的逻辑密度将比N7高18%,并且与N7完全兼容的N6设计规则可以大大缩短客户的产品上市时间。

台积电成立于1987年,是包括苹果和高通在内的全球最大的晶圆代工厂。其总部位于台湾新竹市新竹科学园区。台积电股票在台湾证券交易所上市,股票代码为2330,美国存托凭证在纽约证券交易所上市,股票代码为TSM。

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